PACVD + nitriranje u plazmi

Jedan od inovativnih postupaka Inženjerstva površina jest i PACVD postupak. Nabavkom novog PACVD uređaja (do sada nedostupnog u Republici Hrvatskoj) omogućuje se proizvodnja različitih vrlo tankih jednoslojnih, višeslojnih (čak i nanodimenzioniranih) slojeva kao što su: TiN, TiCN, TiAlN, TIBN, TiB2,... Osim toga, u uređaju se može provoditi najmoderniji postupak nitriranja u plazmi (nova tehnologija u Republici Hrvatskoj) i to u integriranom procesu s nanošenjem završnog sloja.

Alatima, ali i drugim proizvodima tretiranim ovim postupkom mogu se poboljšati svojstva: tvrdoće, otpornosti na koroziju, otpornosti na visoke temperature, otpornosti na trošenje,... i značajno produljiti trajnost u eksploataciji - čime im se osigurava sasvim nova dodana vrijednost.

Prednosti primjene PACVD tehnologije

  • Dvije nove tehnologije: nitriranje u plazmi i prevlačenje postupkom PACVD (nema u Republici Hrvatskoj niti u bližoj okolini)
  • Nitriranje i prevlačenje (dupleks) moguće je provesti u jednom procesu – kontinuirano
  • Niska temperatura procesa (ispod 500°c)
  • Nema promjena dimenzija obratka
  • Prikladnost za masivne predmete kompliciranog oblika
  • Nema emisije štetnih tvari
  • Ekonomičnost postupka
  • Efekt samočišćenja površine
  • Velika pouzdanost (ponovljivost) procesa

Primjenom novog PACVD uređaja unaprijeđuje se

  • Nastava (edukacija)
  • Znanstveno-istraživački rad
  • Suradnja s gospodarstvom i povećava konkurentost domaćih proizvođača na tržištu.

Primjeri primjene: